電鏡用鍍膜儀的主要功能及技術(shù)參數(shù)

點擊次數(shù)：1109 更新時間：2021-06-25

　　電鏡用鍍膜儀可以提供噴碳和濺射兩種工作模式。此外，系統(tǒng)配有膜厚晶振儀，可以對膜厚進行準(zhǔn)確的控制。設(shè)備采用觸摸屏控制，過程全自動操作。

　　電鏡用鍍膜儀配置為濺射鍍膜機或碳絲蒸發(fā)鍍膜機后，可以在全自動化系統(tǒng)中獲得*可重復(fù)的結(jié)果，實現(xiàn)了一臺EM ACE200具有噴金儀，噴碳儀，蒸鍍儀三種功能。如果您的分析需要這兩種方法，徠卡顯微系統(tǒng)在一臺儀器中提供可互換機頭的組合儀表。各個選項，如石英晶體測量、行星旋轉(zhuǎn)、輝光放電和可交換屏蔽共同構(gòu)成這臺低真空鍍膜機。

　　電鏡用鍍膜儀的技術(shù)參數(shù)：

　　可任選離子濺射模式、碳絲蒸發(fā)鍍碳模式，或者雙模式，可選輝光放電(用于網(wǎng)格表面親水化)

　　設(shè)計脈沖式碳絲蒸發(fā)方式，可準(zhǔn)確控制碳膜厚度

　　可選石英膜厚檢測器，準(zhǔn)確控制鍍膜厚度，精度達0.1nm

　　全自動程序控制，自動完成抽真空，鍍膜，放氣等過程

　　觸摸屏控制，簡單方便

　　真空度7×10-3mbar

　　濺射電流：0-150mA可調(diào)

　　方形樣品倉設(shè)計，樣品倉尺寸：140mm(寬)×145mm(深)×150mm(高)

　　工作距離調(diào)節(jié)范圍：30mm-100mm

　　電鏡用鍍膜儀的技術(shù)指標(biāo)：

　　薄膜沉積模式：噴碳，以及濺射(Pt等)